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第379章 夸父半导体开园(2/3)

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陈亚之下午的时候跟卢光南,杨小宝等人一起开会,就未来的光刻机研究方向进行了一些简单的交流。

因为目前国内还没有能够突破58纳米的研究,主要的难点近乎是全面的。

从光刻胶到光学镜头,灯源等等一系列技术难点都极其薄弱。即使是目前已经实现的100纳米的光刻机,也大部分都是国外进口的材料。

卢光南不无遗憾道:“国外对我们的技术封锁是全面的。愿意出口给我们的材料是晚了两代以上的。”

杨小宝道:“辣块妈妈,落后两代的设备也是很贵的。有时候要买的话,还得求着他们。我么现在的58纳米产线,就是江一航那时候带着大家,三番五次去求阿斯麦尔,他们才同意卖设备给我们。”

陈亚之道:“国外的进口设备,咱们还是持续进口。这一块,杨总,你要多费费心。咱们现在缺的不是钱,缺的是人和时间。我们不能让宝岛机电,还有三星在这个市场一家独大,这样,我们今后的半导体行业会完全垮掉的。”

众人都点了点头,深以为然。

陈亚之道:“卢教授,下一代的光刻机研究的方向,我想咱们还是先侧重到浸夜式光刻机。光源这边,我们要专注于极紫外线的光源研究。”

其实,衡量光刻机的性能主要事分辨率,套刻精度和产率。

其中产率就是光刻机在单位时间内能够出产的芯片数量。这个当前并不是最主要的,毕竟一旦光刻机研发成功了,即使产率不高,也可以通过增加光刻机台数的方法来提供产率。

套刻精度则是对芯片上的图形精度的一个直观提现。因为集成电路的制造徐亚经过几十次甚至上百的曝光。这一个过程中,每一次的精度差异都是纳米级别的。这对于镜头和定位的要求特别高。不过以当前的水平,镜头和定位水平都不可能有质的飞跃。

陈亚之知道,这个可以发展,但是需要至少四到五年的时间。

最后则是分辨率,这个是评判光刻机先进成都的最直观的标准。通常我们所说的光刻机的纳米级别就是指的分别率。

其实,所谓的分辨率有点像照片的像素。照片是由很多个小的色块组合而成的,这个色块的尺寸越小,那么照片的像素就会越高。

光刻机的分辨率就是类似色块的最小尺寸,只不过他是以3D的形式,表现在芯片基板上面。

分辨率越小,那么说明光刻机越先进。通常所说的光刻机上突破的尺寸,就是指这个分辨率。

在光刻机中,分辨率又跟一个公式有关,即瑞利公式。分辨率与镜头的数值孔径成反比,与光源的波长成反比。

数值孔径其实类似于我们的视线范围。理论上,这个范围应该是360度才好。不过,因为光刻机要求光刻时的光源参数必须保持一致,因而,这个范围其实是受限的。并不能做得特别大。

光源的波长则很好理解。

陈亚之知道,这个时候极紫外光源还没有能够研发出来,而且也不是短期内可以做到的。因此,可以将极紫外光源纳入研究范畴,当前最要紧的则是研究浸液式光刻机。

所谓浸液式光刻机就是在光源和掩模之间增加一层光学液体,通过光的折射特性来增加数值孔径,以大到分辨率的降低效果。

陈亚之道:“卢教授,不知道你对浸液式光刻机的研究得怎么样?”

卢光南推了推眼镜道:“这个我们之前做过研究,不过因为经费短缺的原因,后来被搁置了。如果我们现在发展浸液式光刻机的话,我想我们可以在一年半到两年的时间内,能够研发出来。”

陈亚之道:“好,那我们就先这么定下来,先全力研发浸液式光刻机,早日实现58纳米的突破。同时,我们也要开始极紫外线的光刻机研究。”

卢光南并没有明显的激动,反而慢条斯理道:“陈总,如果这么做的话,我担心我们的经费...”

这个老人已经被钱给整怕了。他前半辈子一直因为没有得到充足的经费,导致自己倡导的道路没有能够走下去。现在陈亚之提出了,不仅要抓紧研制浸液式光刻机,还同时要进行极紫外线光刻机的研究。

这其实有点左右手互搏的意思。理论上,很多人都认为极紫外线是不可能研发成功的,转而认为光刻机的未来是浸液式光刻机。

陈亚之因为有前世的记忆,知道浸液式光刻机终将被淘汰,未来将会是极紫外线光刻机(EUV)的天下。

不过,为了能够在短期内实现国产光刻机满足汽车行业的需求,他才会这样左右手互搏。既做浸液式光刻机,又研发极紫外线光刻机。

陈亚之道:“卢教授,钱不是问题,我就怕钱解决不了的问题。不过,我想咱们上个世纪连原子弹都能搞出来,这个世纪不可能搞不定一个光刻机。”

卢光南还是忧心忡忡道:“咱们国内的产业实在是太薄弱了,前期如果没有万亿级别的投资,很难会成长起来的。”

陈亚之道:“我们现在不是有了半导体产业园了吗?现在这个园内百分之八十的都是半导体行业相关的公司,没什么可怕的。咱们戮力同心,一定可以成长壮大起来。”

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